• Chemtrace 微污染控制和风险管理服务

    Chemtrace AMC monitoring and risk management


    半导体,光伏和OLED的高精度制造需要超洁净环境。洁净室空气中的微量污染物,例如过程 溢出物,操作员,洁净室消耗品和建筑材料,通常被认为是AMC升高的根本原因,当未被检 测及控制时,它们可能对关键零部件表面产生不利影响,导致设备和半导体工具性能下降。
    根据SEMI标准F21-1016的AMC分类,AMC区分为分子酸,碱,可冷凝有机物,掺杂剂和金 属,它们可以改变半导体材料的电性能。 ITRS和IRDS技术发展指南提出了该行业的污染水平 要求,但是,随着技术节点从Fab到Fab的不同,对于个体Fab来说,建立过程容差或控制限 制以及监控AMC至关重要。


    • 产品特点及优点
    • 产品规格
    • 产品应用

    ◆ 特点和优点


    ○ UPW 和化学品监测降低微污染风险

    ○ 空气分子污染监测延长过滤器寿命 & 避免镜头保修纠纷

    ○ 气体输送系统分析可避免昂贵的制程污染

    ○ 零件分析确保更快的正常运行时间 & 缩短设备预备周期

    ○ 晶圆和沉积膜分析加快开发和资格认证

    ○ 洁净室和耗材分析加快生产洁净室的资格认证

    ○ 统一规范化及认证的先进ChemTrace实验室 (AACL™)

    空气分子污染(AMC)和洁净室材料分析


    • 半导体,光伏和OLED的高精度制造需要超洁净环境。洁净室空气中的微量污染物,例如过程 溢出物,操作员,洁净室消耗品和建筑材料,通常被认为是AMC升高的根本原因,当未被检 测及控制时,它们可能对关键零部件表面产生不利影响,导致设备和半导体工具性能下降。

    • 根据SEMI标准F21-1016的AMC分类,AMC区分为分子酸,碱,可冷凝有机物,掺杂剂和金 属,它们可以改变半导体材料的电性能。 ITRS和IRDS技术发展指南提出了该行业的污染水平 要求,但是,随着技术节点从Fab到Fab的不同,对于个体Fab来说,建立过程容差或控制限 制以及监控AMC至关重要。

    • 全面的AMC测试产品组合可用于支持洁净室建筑材料,洁净室消耗品,洁净室环境,检测工 具内环境,气体分配系统的资格认证和监控,以及灾后恢复清理后洁净室环境的重新认证。